二手湖南宇晶16B陶瓷材料-金属-砷化镓片-不锈钢片-刀具双面打磨机-双抛机-研磨机设备照片
二手湖南宇晶16B陶瓷材料-金属-砷化镓片-不锈钢片-刀具双面打磨机-双抛机-研磨机设备介绍
本机器主要用于硅片、砷化镓片、陶瓷片、石英晶体及其他半导体材料的双面高精度研磨或抛光，也适用于其他金属、非金属、光学玻璃、蓝宝石等硬、脆、薄材料的双面高精度研磨或抛光。
· 机器采用双电机驱动，游星轮在上下盘之间做行星运动，工件上下表面同时均匀研磨/ 抛光；
· 盘面操作高度控制在1050mm 以内，增加机器的稳定性，适合操作；
· 内齿圈、太阳轮同步升降并采用点动操作方式；
· 上盘装置增加机械的安全装置，在摆片、维修等状态下不会因突然故障而下降，增加了安全性；
· 可实现游星轮的正、反转；通过游星轮正转和反转，实现盘面的修磨。
· 机器采用三电机驱动，主电机驱动下盘和齿圈，上盘、太阳轮分别由电机单独驱动，电机均采用变频电机，实现平稳的停止、加速、减速及换向;
· 机架采用龙门式结构，刚性好，承压能力强，能满足高负载下高速稳定运行;
· 齿圈升降结构由气缸驱动含斜面的抬升套旋转，实现齿圈升降;
· 上盘下降过程中，设置了快降和缓降,缓降行程在气缸行程范围内可调，缓降速度也可根据工件抗冲击程度自由调整;
· 为了满足不同用户的特殊需要，该机的内齿圈和太阳轮的速度分别可调，调整速度实现游星轮的正、反转;通过游星轮正转和反转，实现盘面的修研。
抛光研磨的的使用
在普通抛光机的基础.上改进创新发展起来的.适用于产量比较大的工厂使用.
抛光机操作的关键：
1.要设法得到的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层.
2.要使抛光损伤层不会影响较终观察到的组织，即不会造成假组织.
3.解诀这个矛盾的的办法就是把抛光分为两个**进行.
4.粗抛目的是去除磨光损伤层，具有的抛光速率.。
5.粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小.
6.精抛，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到较小.
