进口韩一HVC-1600DA头盔镜片镀膜机/头盔玻璃电镀机/头盔玻璃镜片蒸发镀膜介绍
区分 | 韩一HVC-1600DA |
MODEL | HVC-1600DA |
NO | 2019年,2015年,,2014年 |
EB(电子枪) | 1GUN,,韩一 12穴 |
离子源 | 韩一,(霍尔) |
机械泵 | 爱德华EM275 |
罗茨泵 | 爱德华EM2600 |
深冷 | 韩国V-PLUS1000H |
晶控 | XTC + 2个晶控 |
阻蒸 | 1个 |
制造日 | 2019年,2015年,,2014年 |
进口韩一HVC-1600DA头盔镜片镀膜机/头盔玻璃电镀机/头盔玻璃镜片蒸发镀膜照片
真空泵镀膜机主要是指一类必须在比较高真空值下所进行的镀膜,真空泵镀膜有许多类型,包含真空泵正离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延性,PLD激光器溅射堆积等好几种。运用比较多的是蒸发和溅射二种。蒸发镀膜和磁探溅射镀膜的特征如下所示:
一、针对蒸发镀膜一般是加温溅射靶材使表面组分以原子团或正离子方式被蒸发出去,而且地基沉降在基片表面,根据涂膜全过程(矩形图-岛状构造-迷走构造-片层生长发育)产生塑料薄膜。
1、薄厚均匀度完全取决于:A.基片材料和溅射靶材的晶面配对水平;B.基片表面环境温度;C.蒸发输出功率、速度;D.真空值;E.镀膜时长、薄厚尺寸。
2、组分均匀度:蒸发镀膜组分均匀度不是非常容易确保,实际能够管控的影响因素齐上,但由于基本原理限制,对非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀度不太好。
3、晶向均匀度:1.晶格常数契合度2.基片环境温度3.蒸发速度二.溅射类镀膜可以将其解读为运用电子器件或高能激光跃迁溅射靶材,从而使表面组分以原子团或正离子方式被溅射出去,而且最后附着在基片表面,亲身经历涂膜全过程,从而形成塑料薄膜。
二手设备清单
二手机械库存明细
双面抛光机系列:
日本:hamai16B speedfam16B 21B 28B 30B 40B 双面抛光研磨机
德国:Peter Wolters 319/320系列双端面抛光机
国产:金研/宇晶9.6B 9S 9B 13B 15B 16B 20B
镀膜机械系列:
日本:光弛OTFC-1300/1550/2350
德国:莱宝:1300
闽台:龙翩LP-1400/1650/1800
韩国:韩一 1200 联合2050
南光:1100/1300
检测仪器:
日本岛津UV-1800 UV-1900i UV-2600i分光光度计
日 立 :2900/4000/4001/4150 光谱仪
二次元/三次元(2010/3020/4030.......)
一批二手仿形机120/175MM
一批无尘洁净台2.44*1.2*1.95米
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一批DISCO自动切割机3350 3320